به گزارش گروه فناوری پایگاه خبری تاسیسات نیوز، شرکت پیکوسان (Picosun) فناوری لایهنشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوششهای بسیار نازک دارد که با استفاده از این فناوری میتوان گازهای خطرناک، هگزافلورید سولفور و تریفلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.
منبع
خبرگزاری دانشجو
ممکن است شما دوست داشته باشید